• 穩定性：設備應放置在穩固、抗震的工作臺上。避免將其安置在靠近門、走廊、大型設備或明顯振源（如離心機、沖壓機）的地方。即使微小的振動也可能干擾干涉測量模式的穩定性，或導致圖像模糊。

  
  

• 清潔度：保持設備周圍環境清潔，減少空氣中的灰塵?；覊m落入光學元件或附著在樣品上，都會影響測量結果。建議在無塵或低塵的環境中使用。

  
  

• 溫濕度：維持實驗室或測量室相對恒定的溫度與濕度。劇烈的溫度變化會導致設備部件發生熱脹冷縮，可能引起測量漂移，影響Z軸測量的穩定性。一般建議在設備規定的操作溫度范圍內工作，并避免陽光直射設備。

  
  

• 清潔樣品：這是最關鍵的一步。使用適當的清潔方法去除樣品表面的灰塵、指紋、油污、水漬或其他污染物。常用方法包括：

  
  

• 用潔凈的壓縮空氣或吹氣球吹去浮塵。

  
  

• 使用無塵布或棉簽蘸取高純度溶劑（如異丙醇、丙酮，需確認對樣品無腐蝕）輕輕擦拭。

  
  

• 對于難以清潔的微小顆粒，可使用超聲波清洗（需確認樣品是否適用）。

  
  

• 樣品固定：確保樣品在測量過程中穩固不動。對于小樣品，可以使用橡皮泥、蜂蠟或專用樣品夾具將其固定在載物片或樣品臺上。固定時需注意樣品表面應盡可能水平，避免過度傾斜，以減少后續數據處理中傾斜校正的幅度。同時，固定材料不應污染或損壞樣品表面。

  
  

• 樣品特性考量：

  
  

• 反射率：S lynx2需要樣品表面反射足夠的光信號。對于透光材料（如玻璃）或強吸光材料（如黑色橡膠），可能在背面涂覆反射層（如薄層金或鋁）來增強表面反射信號，但這屬于破壞性處理，需謹慎。

  
  

• 表面斜率：對于側壁非常陡峭（接近或超過物鏡數值孔徑決定的接受角）的特征，可能出現信號丟失，導致該區域測量數據缺失。這需要選擇合適的物鏡和測量模式來優化。

  
  

• 透明薄膜/多層結構：測量透明薄膜上表面形貌通常沒問題，但要測量薄膜厚度（需上下表面都反射）或下層結構，需要選擇合適的干涉模式和分析方法。

  
  

• 開機預熱：設備開機后，建議等待一段時間（如15-30分鐘），讓光源和電子元件達到熱穩定狀態，再進行高精度測量。

  
  

• 光學部件檢查：目視檢查物鏡前透鏡、樣品臺、參考鏡（如果可見）等光學部件表面是否清潔。如有明顯污漬，應按規程小心清潔。

  
  

• 標準片驗證：在開始重要測量前或定期，使用臺階高度標準片等工具快速進行一次測量，驗證設備的Z軸測量準確性是否在預期范圍內。這有助于建立信心并及早發現問題。

  
  

• 選擇測量區域：明確需要測量的具體特征是什么，是整體粗糙度，還是特定劃痕、凹坑、凸起的尺寸？

  
  

• 選擇物鏡：根據特征尺寸選擇。低倍物鏡（如2.5X, 5X）視場大，適合定位和觀察大范圍形貌；高倍物鏡（如50X, 100X）分辨率高，適合觀察微小細節。可先用低倍鏡定位，再切至高倍鏡測量。

  
  

• 預估掃描范圍：通過預覽圖像的聚焦情況，大致判斷樣品表面的高低落差，從而設置合理的Z軸掃描起點和終點，避免掃描范圍不足或過長浪費時間。

  
  

共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 測量準備