ZYGO  測量模式解析

ZYGO Nexview NX2 白光干涉儀集成了多種測量模式，以適應(yīng)不同表面特性的測量需求。了解這些測量模式的工作原理、適用場景及其特點，有助于用戶根據(jù)具體樣品和測量目標(biāo)選擇最合適的測量方式，從而獲得可靠的測量結(jié)果。

垂直掃描干涉模式是NX2的基礎(chǔ)測量模式之一。該模式利用白光光源的短相干特性，通過垂直方向掃描樣品或物鏡，記錄每個像素點干涉信號強度的變化。當(dāng)樣品表面某點與參考鏡的光程差為零時，該點處的干涉條紋對比度達(dá)到zui

大。通過檢測每個像素點對比度峰值對應(yīng)的掃描位置，可以確定該點的表面高度。VSI模式特別適合測量具有較大高度變化范圍、中等粗糙度的表面，其垂直測量范圍可達(dá)數(shù)毫米，垂直分辨率通常在納米級別。這種模式在測量工程表面、加工零件、生物組織等方面有較好的適用性。

相移干涉模式是另一種重要的測量模式。與VSI模式不同，PSI模式使用單色光或窄帶光作為光源，通過精確控制參考鏡的位置，引入已知的相位變化，從而解算出每個像素點的相對相位信息。由于相位計算具有較高的精度，PSI模式在垂直分辨率方面通常優(yōu)于VSI模式，可以達(dá)到亞納米甚至更高的水平。但相移干涉的測量范圍受相位解包裹能力的限制，一般只能測量高度變化小于半個波長的相對光滑表面。因此，PSI模式特別適合測量超光滑光學(xué)表面、精密拋光晶圓、高品質(zhì)薄膜等對垂直分辨率要求ji高的應(yīng)用。

在實際操作中，NX2的軟件通常提供測量模式選擇的指導(dǎo)。用戶可以通過預(yù)覽功能觀察樣品表面的基本情況，軟件會根據(jù)圖像特征推薦合適的測量模式和起始參數(shù)。對于有經(jīng)驗的用戶，也可以根據(jù)樣品特性和測量需求，手動調(diào)整測量模式和相關(guān)參數(shù)。合理的模式選擇是獲得高質(zhì)量測量數(shù)據(jù)的第yi步，需要結(jié)合理論知識和實踐經(jīng)驗進(jìn)行綜合考慮。

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