奧林巴斯顯微鏡：材料科學微觀表征利器
奧林巴斯BX53M正置式材料顯微鏡是專為材料科學和工業應用設計的科研級顯微鏡，采用模塊化設計理念，為廣泛的材料學和工業應用提供了多樣化的解決方案。這款顯微鏡改進了與奧林巴斯Stream軟件的集成性，為常規顯微鏡檢查和數碼成像用戶提供了從觀察到報告創建的無縫工作流程。
產品設計理念
BX53M系列以模塊化為核心設計理念，用途廣泛，可用于各種材料科學和工業應用。根據工業和材料學的不同應用，BX53M可以組合成反射顯微鏡、透反射顯微鏡、紅外顯微鏡、偏光顯微鏡等多種應用的顯微鏡。這種模塊化設計使用戶能夠按照自己的方式打造專屬系統，滿足個性化的檢測需求。
光學系統性能
BX53M采用UIS2無限遠光學系統，可實現反射、透射照明，能提供良好的圖像清晰度和分辨率。照明系統配備穩定的LED或鹵素燈光源，提供均勻、高強度的照明，支持高質量成像。物鏡與目鏡通常配置六孔位的物鏡轉換器，編碼五孔，可根據需求選擇不同倍率的物鏡，目鏡一般有寬視場(FN22)和超寬視野(FN26.5)兩種選擇。
在物鏡光學性能方面，BX53M實現了技術突破。半復消色差技術深化，在多波長像差校正方面，在486nm(F線)、546nm(e線)、656nm(C線)實現三重色差補償，波長偏移容差±15nm，色差殘留量小于0.12%。場曲控制采用非球面透鏡組(3組5片結構)，視場邊緣分辨率損失從傳統物鏡的40%降至8%。暗場專用光學增強方面，物鏡前組增加抗反射納米鍍膜(反射率小于0.2%)，有效抑制雜散光干擾，暗場信噪比提升至200:1。工作距離優化方面，20X物鏡工作距離增至4.2mm(傳統物鏡約3mm)，支持更厚涂層樣品觀測。
觀察方法與功能特點
BX53M支持多種觀察模式，包括明場、暗場、偏光、微分干涉等多種傳統襯度對比法。隨著新材料的發展，使用優良的顯微鏡檢查技術可以進行更精確和更可靠的檢查，從而解決以往使用傳統襯度對比法檢查時遇到的缺陷檢測方面的困難。
MIX組合式觀察技術是BX53M的一大特色。MIX組合式照明滑塊中的LED光源，以定向暗場光線照射樣品，這種方式類似于傳統暗場照明，但又具有更大的靈活性。這種明場與定向暗場的組合稱為MIX組合式照明，對突出顯示缺陷和區分隆起與凹陷表面很有用處。
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