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奧林巴斯多模式觀察:材料分析的全面視角奧林巴斯BX53M材料顯微鏡支持多種觀察模式,為用戶提供了全面的材料分析能力。明場觀察是基礎模式,采用科勒照明原理,提供均勻的照明背景,適合大多數材料的常規檢測。
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奧林巴斯多模式觀察:材料分析的全面視角奧林巴斯BX53M材料顯微鏡支持多種觀察模式,為用戶提供了全面的材料分析能力。明場觀察是基礎模式,采用科勒照明原理,提供均勻的照明背景,適合大多數材料的常規檢測。暗場觀察通過特殊的光路設計,使直射光不進入物鏡,只有樣品表面散射的光線被收集,從而凸顯細微的凹凸特征,在觀察劃痕、孔隙等表面缺陷時效果明顯。
微分干涉相襯(DIC)觀察模式利用偏振光和沃拉斯頓棱鏡,將樣品表面的高度差異轉換為亮度或顏色變化,實現類似三維的觀察效果。這種模式對樣品表面的微小高度變化極其敏感,能夠清晰顯示拋光樣品的晶界、位錯等亞表面結構。在金屬材料研究中,DIC模式可以觀察到傳統明場難以分辨的塑性變形區域。
偏光觀察模式配備了起偏器和檢偏器,可用于分析具有雙折射特性的材料。在巖石礦物鑒定、高分子材料研究中,偏光模式能夠根據干涉色和消光特性判斷材料的晶體結構和取向。高級配置還包括補色器和石英楔等附件,可進行更精確的光學特性測量。
熒光觀察模式通過高能量光源激發樣品的自發熒光或染料標記物的熒光,實現對特定結構的選擇性顯示。在復合材料研究中,熒光模式可用于觀察填充物分布;在失效分析中,可通過熒光染料檢測材料的微裂紋分布。
使用說明:切換觀察模式時需要遵循正確的操作順序。啟用DIC模式時,應先插入起偏器和檢偏器,再調節沃拉斯頓棱鏡的位置至優良對比度。偏光觀察需要嚴格校正偏振片方向,通常采用消光位作為起始位置。熒光觀察前需預熱光源,選擇與熒光染料匹配的濾光片組,并在暗室環境下進行以獲得優良效果。
參數表:
明場觀察:科勒照明,數值孔徑0.05-0.9
暗場觀察:環形照明,支持干式和油浸物鏡
DIC模式:反射式諾馬斯基棱鏡,支持10×-100×物鏡
偏光配置:旋轉式起偏器(360°可調),固定檢偏器
熒光附件:100W汞燈光源,UV/BP/SP三組濾光塊
觀察方法:支持正像錐光、斜照明觀察
溫度適應性:-196℃至600℃(選配溫控臺)
樣品要求:最大厚度30mm(標準配置)
這些觀察模式的靈活組合使BX53M能夠適應各種材料的分析需求,從金屬合金到高分子材料,從半導體器件到地質樣品,為材料研究者提供全面的分析手段。奧林巴斯多模式觀察:材料分析的全面視角