在半導體制造和微機電系統（MEMS）領域，精確的表面形貌測量是確保產品質量的關鍵。Sensofar S-neox 3D光學輪廓儀憑借其多模式測量技術和卓yue性能，為晶圓膠測量與MEMS三維形貌檢測提供了高效解決方案。

晶圓膠作為半導體制造中的關鍵材料，其厚度與均勻性直接影響芯片封裝的可靠性和性能。傳統的測量方法往往難以兼顧高精度與高效率，而Sensofar S-neox結合SensoPRO專用插件，實現了晶圓膠高度、寬度等參數的全自動表征。

通過5倍鏡頭與多焦面疊加技術，設備能夠清晰捕捉膠水的三維輪廓，有效識別因沉積不均導致的翹曲或分層問題。測量數據表明，該系統可精確輸出膠層的最大寬度、最小寬度及平均高度等關鍵參數，為工藝優化提供可靠依據。

MEMS技術實現了機械、光學與電子功能的異構集成，但其微納級結構的質量控制面臨嚴峻挑戰。S-neox光學輪廓儀基于白光干涉技術，可對MEMS器件的臺階高度、線條寬度和表面粗糙度進行亞納米級精度的測量。

使用20倍和50倍鏡頭，設備能夠清晰呈現MEMS結構的三維形貌，即使是深槽結構或高陡峭側壁也能準確成像。這為工藝開發人員提供了直觀的形貌數據，助力快速定位制造缺陷。

Sensofar S-neox集成了白光干涉、共聚焦、多焦面疊加等多種測量模式，用戶可根據樣品特性一鍵切換。其縱向分辨率達0.01nm，兼具大景深和高分辨率的特點，能夠適應從光滑光學表面到粗糙金屬材質的各類樣品。

此外，設備的自動拼接功能支持大面積測量，結合SensoPRO專用分析插件，大幅提升了檢測效率，為半導體和MEMS制造行業提供了從研發到質控的全流程解決方案。